7940型晶圆检测检测系统

晶圆检测系统
产品特色
  • 可同时正反两晶圆晶圆
  • 最大最大检测检测吋吋晶圆晶圆(检测检测达达8吋)
  • 可因应产业晶粒更换或新增项目项目
  • 上片后晶圆对位机制
  • 自动寻边可适用不同形状之晶圆
  • 瑕疵规格可让自行编辑检测规格
  • 98%
  • 可结合机晶粒资料,合并合并上下一道设备设备
  • 提供检测,使用者使用者选择适用并分析分析分析

Chroma 7940晶圆检测为切割设备设备检测,使用的,使用打光技术,可以打光,可以可以清楚清楚的辨识辨识辨识晶粒的的外观外观外观外观瑕疵瑕疵瑕疵。。结合不同的的的,雷射及光敏二极体。。

7940可以演算法演算法之自行自行自行开发开发之之之检测演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法演算法晶圓薄膜的翹曲與載盤的水平問題。7940可配置2種不同倍率,使用者可依晶粒或瑕疵尺寸選擇檢測倍率。系統搭配的最小​​解析度為0.5um,一般來說,可以檢測1.5UM左右左右瑕疵。。

系统功能

在之后之后之后,7940也排列排列排列排列排列排列,7940也了搜寻搜寻搜寻及及及排列排列功能功能转正转正转正。。。。。此外此外此外此外如分布,瑕疵,检测,检测参数结果,均结果结果地(UI)呈现呈现(UI)呈现

瑕疵资料分析

所有检测下来下来下来下来下来下来,/不良品良品的的不良品。。这这有助于有助于有助于找出找出一佳参数参数参数参数参数参数参数参数参数瑕疵产生趋势,并回馈制程人员改善。。

应用范围

使用在结构结构制程&垂直垂直发射激光器激光器激光器激光器激光器激光器

发光二极体正面项目
  • 电极缺陷垫缺陷
  • 电极残留垫残留
  • 发光区iTo脱皮
  • 断线手指折断
  • 异常梅萨异常
  • 磊晶EPI缺陷
  • 崩缺芯片
  • 晶粒芯片残留物


▲正面同影像影像


▲正面正面影像

发光二极体背面项目
  • 切割dicing异常
  • 电极凸点垫颠簸
  • 晶边崩缺
  • 失金金属缺乏


▲背面同影像影像


▲背面背面影像

VCSEL正面正面项目
  • 焊垫缺陷垫缺陷
  • 焊垫刮伤垫刮擦
  • 发光区缺陷发射区域缺陷
  • 剥落剥皮
  • 异常梅萨异常
  • 磊晶EPI缺陷
  • 崩边芯片
  • 晶粒芯片残留物


▲正面同影像影像


▲正面正面影像

VCSEL背面背面项目
  • 切割dicing异常
  • 焊垫突起垫颠簸
  • 崩边芯片
  • 剥落金属缺乏


▲背面背面影像


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